- 产品描述
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测试
光学膜厚仪
Optical Film Thickness Meter
型 号：美国KLA F20-EXR
功 能：无接触测量薄膜厚度，波长范围从紫外到近红外可选。
工 程 师：李旭辉/
设备地点：黄光区
设备编号：
设备基本信息
主要用途：
该设备可对样品进行无接触的无损测量，可测量薄膜厚度，测量迅速、操作简单，精度通常可达到纳米级。波长范围可以从紫外到红外可选，用来测量超薄膜、多层薄膜厚度等等，薄膜厚度从几纳米到百微米范围。
工艺/测试能力：
技术指标：
波长范围190~1700nm，厚度测试范围4nm~115μm，准确度0.2%或1nm（取较大者）。
设备工作原理
典型使用案例
对大部分的液体材料，通过对介电常数的精准测蛋来获得其组分信息、结构信息和极化机理,相对于基于光学的光谱测蛋表征，最近已经变得越来被流行。尤其对于天然的混合物，如牛奶、果汁、谷物和一些软组织等，介电常数测蛋表征的优势更加突出。
基于国产DDR3管芯的SiP 级封装产品，封装尺寸8.5mmx 10mm。产品电气特性符合JESD79-3F DDR3 SDRAM标准。内部合封16位DDR3/3L裸芯片2颗、端接电阻、电容组成32位存储芯片。产品设计符合工业级标准，可以广泛应用于数据缓存、数据处理。
致力于异质异构集成，毫米波射频测试、EDA及人工智能综合服务
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